第64章 星晓[11] ASML EUV发布！(1 / 8)

    蓝河科技最基础的部署战略已走出第一步,一条攻破高阶国产光刻机技术的科技链已有?了?雏形，接下来的技术攻破才是?重中之重的难点。

    盛明安和沈问冰谈完具体的细节以及一些arf光刻胶技术难点的看?法?后，离开甬城,回到津市,而沈问冰就arf光刻胶及配套材料研发项目收集资料,准备申请立项，估计通过几?率很高。

    高端光刻胶及配套材料的研发和产业化本来就在国家02专项项目里，按前世轨迹,arf光刻胶（193nm光刻胶）将在三?年后由南大光电申请通过立项，获得国家科研基金资助，于立项后的两年内完成验收。

    现在盛明安介入，也只是?提前让arf光刻胶被研发出来，研发团队和专项所属权仍然属于原主。

    盛明安完成初步战略部署后，马不?停蹄赶回蓝河科技研发部准备光源系统的研发，几?乎没有?停下来喘口气的机会。

    不?只是?他,整个?蓝河科技所有?人都像陀螺似的忙得晕头转向。

    系统好奇盛明安为什么?不?自己独立攻破光刻机所有?核心技术？

    他有?前世的记忆，他熟知光刻机几?十上百项核心技术，足以轻而易举的攻破,而不?必像现在这样全国四处寻找科研团队，费尽口舌说服他们跟蓝河科技合作。

    如果?盛明安一个?人研发出光刻机,所有?专利都将属于他。

    专利带来的财富和名誉源源不?断,国内任何一家科技公司想为他生产制造光刻机的材料譬如晶圆、光刻胶或者双工作台,都得花钱从他手中买下生产这些材料的专利费用,更别提之后完成的高阶光刻机。

    甚至他能够直接毕业，学校为他开绿灯，说不?定还会给他一个?国家院士和名誉教授。

    这真不?是?开玩笑?的！

    光刻机的地位就是?如此重要！

    而且只要盛明安攻破这些技术难题，再交由蓝河科技研发部完善,他们也不?用跟着他这么?大费周章的为革芯的未来铺路。

    系统很好奇，于是?这么?问出口。

    盛明安正在设计复杂的光源系统，闻言愣了?下，回头看?了?眼身后忙碌的团队。

    右手边的助手是?个?戴眼镜的年轻姑娘，注意到盛明安的目光便轻声问：“老板，您想来杯黑咖啡吗？”

    姑娘刚走出学校的实验室没多
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